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艾拓斯新材料科技(苏州)有限公司

稀贵金属溅射靶材|高纯金属合金靶|蒸发镀膜材料|日本ITO溅射靶材|黄金靶|铂金靶|金...

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进口ITO、ANP溅射靶材ITO颗粒镀膜
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产品: 浏览次数:986进口ITO、ANP溅射靶材ITO颗粒镀膜 
品牌: 三星 ,ANP
纯度: 99.99%
尺寸: 任意
比例: 90:10 wt%
单价: 100.00元/件
最小起订量: 1 件
供货总量(库存): 5000 件
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2022-03-10 22:11
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详细信息

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜,广泛应用于太阳能、LCDTP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式,

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ,高端TFT-LCDITO靶材均来自日本的东曹、日立、日矿金属JX,住友、日本能源、三井金属、韩国三星康宁、韩国ANP等公司

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt%) 其他比例以客户要求为准

相对密度: ≥99.5%(理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99%

尺寸规格:依据客户要求为准

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99%以上,主要杂质元素CuFePbSiNi分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm

2)相对密度:相对密度要求在99.5%以上,密度均匀度偏差≤0.15%

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3,

Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:120MPa

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